음극에 놓여 있는 처리물과 전극 사이에 높은 전압을 걸어 글로우 방전이 생기게 하여 플라즈마를 발생시킨다. 3. ② 국내의 기술개발 동향 3절. ⑤ 경제적이며,, 약 900이상의 고온이 필요하기 때문에 외부 히터로서 가열된다. ⑤ 화합물층 조성이 자유롭다. ⑥ 스테인레스강과 같은 특수강의 질화도 용이하다. 고주파가열의 강재에 대해 설명 2. 이온침탄의 특징 3. 이 방법은 처리할 부품을 진공로에 장입하고 탄화수소 계 가스를 감압 분위기 중에서 가열해서,이온침탄이란 이온침탄은 플라즈마 침탄이라고도 하며, ( ) 넣기 문제 5. . ⑧ 내식성이 우수하다.zip 이온침탄과 이온질화 및 표면 경화(질화)jo. ② 처리에 필요한 에너지가 절약된다. 이온질화의 향후 기술개발과 동향 ① 선진국의 기술개발 동. , 이 탄소 이온이 처리물 표면에 충돌하여 내부로 침투하게 되면 침탄이 되는 것이다. ^^ 이온침탄과이온질화및표면경화(질화)jo 이온침탄과 이온질화 및 표면 경화(질화) 1절. 이온침탄 1. 이온질화의 적용사례 4. 표면 경화( ......
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이온침탄과 이온질화 및 표면 경화(질화)
1절. 이온침탄
1. 이온침탄이란
2. 이온침탄의 특징
3. 이온침탄의 적용사례
① 고농도 침탄법
② 고심도 침탄
③ 난참탄재에 적용
4. 이온침탄의 향후 기술개발과 동향
2절. 이온질화
1. 이온질화
2. 이온질화의 특징
① 무공해이며 작업환경을 쾌적하게 할 수 있다.
② 처리에 필요한 에너지가 절약된다.
③ 처리시간이 단축되어 신속질화가 가능하다.
④ 저온처리가 가능하다.
⑤ 화합물층 조성이 자유롭다.
⑥ 스테인레스강과 같은 특수강의 질화도 용이하다.
⑦ 적용범위가 넓다.
⑧ 내식성이 우수하다.
3. 이온질화의 적용사례
4. 이온질화의 향후 기술개발과 동향
① 선진국의 기술개발 동향.
② 국내의 기술개발 동향
3절. 표면 경화(질화)
1. 고주파가열의 강재에 대해 설명
2. 순질화와 연질화의 비교 설명
3. 침탄후 열처리
① 구상화 어닐링 ② 퀜칭처리
③ 템퍼링 ④ 심냉처리
4. 적주식 가스침탄 메탄올의 열분해가스 반응에 대해 설명, ( ) 넣기 문제
5. 입계산화의 정의와 방지책 2가지 및 ( ) 넣기 문제
6. 침탄경화와 질화의 차이점
1) 처리온도 2) 확산침투법
3) 침탄후 반드시 열처리 필요
4) 침탄제품 질화제품
※ 참고문헌
1절. 이온침탄
1. 이온침탄이란
이온침탄은 플라즈마 침탄이라고도 하며, 약 900이상의 고온이 필요하기 때문에 외부 히터로서 가열된다. 이 방법은 처리할 부품을 진공로에 장입하고 탄화수소 계 가스를 감압 분위기 중에서 가열해서, 음극에 놓여 있는 처리물과 전극 사이에 높은 전압을 걸어 글로우 방전이 생기게 하여 플라즈마를 발생시킨다. 이때 글로우 방전에 의해 분위기 중의 탄소는 이온화되면서 큰 운동 에너지를 가진 이온([C]+)으로 되며, 이 탄소 이온이 처리물 표면에 충돌하여 내부로 침투하게 되면 침탄이 되는 것이다. 최근에는 반도체 제조 기술에 이온 주입이 응용되고 있다. 이처럼 플라즈마의 이용 분야는 무한한 가능성이 있다.
2. 이온침탄의 특징
① 장치 및 탄소농도 관리가 간편하다.
② 전처리 및 침탄 방지가 간단하고 표면이 광택을 갖는다.
③ 침탄 속도가 빠르고 침탄 효율이 높다.
④ 고탄소 및 복합 침탄이 가능하다.
⑤ 경제적이며, 환경이 개선된다.
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